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The initial stages of the ALD growth of HfO₂ films on SiO₂ and H-terminated Si (001) substrates = Las etapas iniciales del crecimiento por ALD de películas de HfO₂ sobre substratos de Si (001) terminados en H y SiO₂
(Tesis (M.C.)--Centro de Investigación y de Estudios Avanzados del I.P.N. Unidad Querétaro, 2007) -
Thermal stability of the metal/high-k interface for advanced CMOS devices = La estabilidad térmica de interfaces de alta constante dieléctrica para circuitos CMOS avanzados
(Tesis (M.C.)--Centro de Investigación y de Estudios Avanzados del I.P.N. Unidad Querétaro, 2007)