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La estabilidad térmica de nanopelículas de TiN/HfO₂ sobre InGaAs

dc.contributor.authorSánchez Martínez, Araceli
dc.date.accessioned2023-10-31T17:30:22Z
dc.date.available2023-10-31T17:30:22Z
dc.date.issued2010
dc.identifier.urihttps://repositorio.cinvestav.mx/handle/cinvestav/4661
dc.formatpdf
dc.format.extentxiv, 97 p. : il. ; 28 cm.
dc.language.isospa
dc.publisherTesis (M.C.)--Centro de Investigación y de Estudios Avanzados del I.P.N. Unidad Querétaro
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4
dc.subject.classificationINGENIERÍA Y TECNOLOGÍA
dc.subject.otherSemiconductors::Design and construction||Semiconductors::Materials||Semiconductors::Surfaces||Indium compounds||Dissertations, Academic
dc.titleLa estabilidad térmica de nanopelículas de TiN/HfO₂ sobre InGaAs
dc.typemasterThesis
dc.contributor.directorHerrera Gómez, Alberto
dc.identificator7
dc.coverage.placeofpublicationSantiago de Querétaro, Querétaro, México
dc.description.institutionCINVESTAV
dc.description.unidadUnidad Querétaro
dc.thesis.areaTecnología y Ciencias de la Ingeniería
dc.thesis.degreedepartmentUnidad Querétaro
dc.thesis.degreedisciplineIngeniería de Materiales
dc.rights.accessopenAccess


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Nombre:
SSIT0010053.pdf
Tamaño:
27.98Mb
Formato:
PDF
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