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Metodologías TCAD para diseñar diodos epitaxiales de recuperación rápida de silicio usando una estructura con contacto tipo mosaico P+
Fecha
2002
Autor
Aldrete Vidrio, Hector Eduardo
Metadatos
Mostrar el registro completo del ítem
URI
https://repositorio.cinvestav.mx/handle/cinvestav/677
Colecciones
Diseño Electrónico
[95]
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Excepto si se señala otra cosa, la licencia del ítem se describe como http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
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